1.簡介
潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、尖端技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機(jī)械工業(yè)(如陀螺儀、微型軸承等加工)、半導(dǎo)體工業(yè)(如大規(guī)模集成電路生產(chǎn))等對環(huán)境的要求,促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。國內(nèi)曾統(tǒng)計(jì)過,在無潔凈級別的要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%,64位儲存器僅2%。目前在精密機(jī)械、半導(dǎo)體、宇航、原子能等工業(yè)中應(yīng)用潔凈室已相當(dāng)普遍。
2.按受控粒子的性質(zhì)劃分
(1)工業(yè)潔凈室:受控粒子為塵埃等非生物粒子的潔凈室。
(2)生物潔凈室:受控粒子為生物粒子的潔凈室。
3.實(shí)現(xiàn)潔凈度要求的通風(fēng)措施
潔凈室要達(dá)到潔凈等級,必須有綜合措施,其中包括工藝布置、建筑平面、建筑構(gòu)造、建筑裝修、人員和物料凈化、空氣潔凈措施、維護(hù)管理等。其中空氣潔凈措施是實(shí)現(xiàn)潔凈等級的根本保證。就空氣潔凈而言,主要有以下幾項(xiàng)具體措施 :
(1) 對潔凈室的送風(fēng)必須是有很高潔凈度的空氣。因此,必須選用高效或亞高效過濾器(潔凈級別低時(shí))作為終端過濾器,對進(jìn)入潔凈室的空氣,進(jìn)行最后一級過濾。為保護(hù)終端過濾器和延長其壽命,必須使空氣先經(jīng)中效過濾器進(jìn)行過濾。
(2) 根據(jù)潔凈室的等級,合理選擇潔凈室的氣流分布流型,在工作區(qū)應(yīng)避免渦流區(qū);盡量使送入房間的潔凈度高的空氣直接到達(dá)工作區(qū);氣流的流動有利于潔凈室內(nèi)的微粒從回風(fēng)口排走。
(3) 有足夠的風(fēng)量,既為了稀釋空氣的含塵濃度,又保證有穩(wěn)定的氣流流型。
(4)不同等級的潔凈室、潔凈室與非潔凈室或潔凈室與室外之間均應(yīng)保持一定的正壓值。
4.潔凈室氣流組織考慮原則
(1) 當(dāng)產(chǎn)品要求潔凈度為100級時(shí),選用層流流型;當(dāng)產(chǎn)品要求潔凈度為1000~100000級時(shí),選用亂流流型。
(2) 減少渦流,避免把工作區(qū)以外的污染物帶入工作區(qū)。
(3) 為了防止灰塵的二次飛揚(yáng),氣流速度不能過大。亂流潔凈室的回風(fēng)口不應(yīng)設(shè)在工作區(qū)的上部。宜在地板上或側(cè)墻下部均勻布置回風(fēng)口。
(4) 工作區(qū)的氣流應(yīng)均勻,流速必須滿足工藝和衛(wèi)生的要求;潔凈氣流應(yīng)盡可能把工作部位圍罩起來,使污染物在擴(kuò)散之前便流向回風(fēng)口。
(5) 工作設(shè)備布置時(shí)要留有一定的間隔,為送、回風(fēng)口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件:氣流組織設(shè)計(jì)時(shí)要考慮高大設(shè)備對氣流組織的影響。
(6) 潔凈工作臺不宜布置在層流潔凈室內(nèi)。當(dāng)布置在亂流潔凈室時(shí),宜將其置于工作區(qū)氣流的上風(fēng)側(cè),以提高室內(nèi)的空氣潔凈度。
(7) 潔凈室內(nèi)有通風(fēng)柜時(shí),宜置于工作區(qū)氣流的下風(fēng)側(cè),以減少對室內(nèi)的污染。
5.潔凈室設(shè)計(jì)對生產(chǎn)工藝的要求
(1) 潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務(wù)的,潔凈室設(shè)計(jì)必須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求,這是理所當(dāng)然的。因此,在潔凈室設(shè)計(jì)時(shí)生產(chǎn)工藝對環(huán)境參數(shù)的要求應(yīng)該實(shí)事求是,其面積、層高,溫度、濕度,潔凈度等應(yīng)該該高則高,該低則低,并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運(yùn)行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求,控制凈化面積,縮小高凈化級別潔凈區(qū)的范圍,嚴(yán)格控制100級和更高級別單向流潔凈區(qū)的面積。
(2)在生產(chǎn)工藝平面區(qū)劃時(shí)盡可能把相同級別的潔凈房間布置在一起,把潔凈度要求高的工序設(shè)置在上風(fēng)側(cè),把產(chǎn)生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆廢氣的工藝設(shè)備、容器盡可能放在潔凈區(qū)外,若必須放在潔凈區(qū)內(nèi)時(shí)應(yīng)盡量采取密閉措施以減少粉塵和廢氣的排放量。